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[华为]#华为P50#麒麟9000L基本确认中芯国际N1工艺重制[第11页] |
| 作者:USG石村号 |
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N1相当于低功耗低性能8nm,N2相当于7nm,估计使用DUV多重曝光而来.成本增加.如果真的是使用国产光刻机那就很棒！ |
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你这就很离谱，明明有说9000L是N5，除非某华虚假xuan传 |
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AMD很坚挺，楼主 |
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7xx 1398(1.8w) 4321(6.9w) 3 dmark 10765(6.42w) 8xx 1575(1.7w) 4989(6.8w) 3 dmark 13856（6.52w） 9xxx 1708(1.8w) 5767(6.9w) 3 dmark 19989(6.9w) 9xxxpro 1723(1.7w) 5876(6.8w) 3 dmark 21546(6.85w) |
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3 dmark OpenGLes3.1 9xxxpro 21546（6.85w） 9xxx下代 40667 (6.7w) |
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不信谣不传谣 |
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5mm技术对于中芯国际来说简直是小菜一碟 |
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赢 |
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你脑子是让驴给踢了吧，中心光刻机也是用美国技术 |
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智商啊，这就是比9000E还残的残片屏蔽核心弄出来的，这么明显，居然还有人水，水完三星水中芯国际是吧？ |
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